- Деталі
- Перегляди: 7987
Романюк Б. Н. и др. //Физика и техника полупроводников 2010
- Деталі
- Перегляди: 7994
Romanyuk B.N. et al.//Semiconductors 2010
- Деталі
- Перегляди: 7796
Romanyuk A. et al //Journal of luminescence 2010
- Деталі
- Перегляди: 7767
Melnik V.P. et al. //Ukrainian journal of Physics 2011
- Деталі
- Перегляди: 7820
Bunak S.V. et al.//Semiconductor physics quantum electronics & optoelectronics 2011
- Деталі
- Перегляди: 21042
Litovchenko V.G. et al // Solid State Phenomena Vol. 178 2011
- Деталі
- Перегляди: 7972
O. Korotchenkov, A.Podolian, B.Romanyuk, V.Melnik et al.// Journal of Applied Physics 2012
- Деталі
- Перегляди: 7480
Nikirin V.A., et al. // Materials Letters 68 2012
- Деталі
- Перегляди: 7550
Gamov, D. V., et al. // Ukrainian Journal of Physics, 2013. Vol. 58, No. 9.– 2013.
- Деталі
- Перегляди: 7420
Korsunska, Nadiia, et al. // Nanoscale research letters8.1– 2013.
- Деталі
- Перегляди: 7649
Першин Ю. П. и др. // Металлофизика и новейшие технологии. – 2013.
- Деталі
- Перегляди: 7340
Goltvyanskyi, Yu, et al. // Thin Solid Films564 – 2014.
- Деталі
- Перегляди: 7481
Oberemok O. et al. //Semiconductor Science and Technology. – 2014.
- Деталі
- Перегляди: 7502
Oberemok O. et al.// Physica Status Solidi (c). – 2014.
Більше статей...
- Structural and electrical properties of oxygen complexes in Cz and FZ silicon crystals implanted with carbon ions
- Formation of shallow np junctions in Cz-Si by low-energy implantation of carbon ions
- Peculiarities of the Impurity Redistribution under Ultra-Shallow Junction Formation in Silicon
- Formation of shallow np junctions in Cz-Si by low-energy implantation of carbon ions.