Механизмы формирования контактного сопротивления в омических контактах с большой плотностью дислокаций

V. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics of National Academy of Sciences of Ukraine

Саченко А.В., Беляев А.Е., Болтовец Н.С., Конакова Р.В., Шеремет В.Н. // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. – 2013. – т.48. – с. 45-62

Nav view search